加快推進納米壓印光刻技術在光電制造領域的應用

兩家市場領導者開展推廣和技術合作，通過結合各自優勢，提供納米壓印光刻技術開發工具包，并實現大批量生產

奧地利圣弗洛里安和東京2022年9月20日 /美通社/ -- 全球首屈一指的光掩模供應商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的領先供應商EV Group（簡稱EVG）今天宣布，兩家公司已達成協議，共同推廣賦能光電產業的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(NIL)。

此次合作結合NIL系統的領先供應商和開創者與半導體市場的光掩模領先供應商的優勢，旨在確立NIL為光電制造的行業標準生產工藝，并加速其在HVM中實施，以支持各種應用。這些應用包括增強/混合/虛擬現實耳機、智能手機、汽車傳感器和醫療成像系統。

作為此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask將結合各自的知識、專長和服務，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的設備及工藝開發服務，提供NIL開發工具包，以進一步推廣NIL技術并提高將該技術應用于工業生產的可能性。EVG還將在其位于奧地利總部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感興趣的公司提供NIL技術和產品演示。此外，對于有意在生產過程中使用NIL技術的企業，兩家公司都將對方指定為首選推薦的供應鏈合作伙伴。

Toppan Photomask Co. Ltd.首席技術官全燦旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高興能與EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，將提高光電技術和其他將采用NIL技術的新技術成本效益。Toppan Photomask認為，兩家公司都具有顯著的優勢，在此推動下，NIL技術有著良好的發展前景，有望成為另一種成功的光刻解決方案。”

實現納米壓印光刻技術成為主流制造技術

在創建任意形狀的精細圖案（如超構透鏡）的未來應用方面，傳統的光刻技術已達到了極限。NIL是一種公認且具有成本效益的工藝，可在復雜的結構上生成納米級分辨率的圖案，因此是這些應用的可行替代方案。NIL可以非常有效地大面積復制這些復雜的結構，設計限制較少，且工藝流程非常精簡，因此非常適用于原型設計和HVM。

20多年來，EVG一直是NIL技術領域的開創者，通過與光學材料（如粘合劑和抗蝕劑）、基板材料和印章生產供應商，以及光學元件和設備制造商等整個NIL供應鏈中的企業合作，為打造更加廣泛的NIL生態系統做出貢獻。EVG和Toppan Photomask分別是光刻和光掩模制造領域的知名行業領導者，兩家公司通過合作，旨將NIL作為光電行業的主流HVM技術加以推廣。

EV Group企業技術開發和知識產權總監Markus Wimplinger稱：“我們很高興與Toppan Photomask合作，將納米壓印光刻技術引入主流制造應用。作為以最高質量標準著稱的領先半導體光掩模供應商，Toppan Photomask在使用滿足全球最嚴格生產要求的標準化生產方法方面擁有豐富的經驗。此次是納米壓印工藝設備和服務提供商與納米壓印母版生產商之間的首次合作，對行業來說是一次巨大的勝利，我們將通過合作，幫助我們的客戶迅速擴大NIL應用，使之成為先進光學設備和元件的批量生產技術，幫助他們將新的‘虛擬’構思變為現實。”

即將舉行的納米壓印行業活動

兩家公司的專家將參加9月19日至23日在比利時魯汶Gasthuisberg學術園區舉行的Micro and Nano Engineering (MNE) Eurosensors 2022 Conference大會，并在會上對此次合作進行討論。與會者可參觀EVG的S8號展位，以獲取更多信息。

此外，EVG的Christine Thanner將出席于10月5日在日本富山舉行的納米壓印和納米印刷技術(NNT)會議，并將在全體大會上發表題為 “納米壓印—從小眾到大批量生產”的特邀演講，屆時她將闡述NIL母版制造技術、復制設備和工藝的匹配組合的重要性。

NILPhotonics能力中心：靈活的合作模式

EVG的NILPhotonics能力中心為整個NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供開放的創新孵化器，讓他們可以通過合作，縮短創新光電設備和應用的開發周期及上市時間。該中心高度靈活，可滿足客戶的不同需求，同時確保為開發過程中的每個環節提供最高水平的IP保護。潔凈室旨在滿足最嚴格的客戶要求，并實現虛擬生產線概念，即將晶圓重新引入客戶的晶圓廠，以對其進行進一步加工。詳情請訪問：https://www.evgroup.com/products/process-services/nilphotonics-competence-center/。

全球首款室外測距最長可達20米，為傳統產品5倍以上的CMOS圖像傳感器
有望在自動飛行無人機等工業領域作為圖像傳感器和相機實現廣泛應用

東京2022年6月16日 /美通社/ -- 凸版印刷株式會社（總公司：東京都文京區，代表取締役社長：麿秀晴，以下簡稱"凸版印刷"）與子公司株式會社Brookman Technology（總公司：靜岡縣濱松市，代表取締役社長：青山聰，以下簡稱"Brookman Technology"）共同開發出一款采用"混合型（hybrid）ToF（光飛行時間）法"（※1）的"三維距離圖像傳感器（以下簡稱"3D傳感器"）"。該款傳感器可實現在1～30米范圍內的距離測量，是目前主流的"間接ToF法"3D傳感器測距范圍的5倍以上。自動飛行無人機或自動運輸機器人等通過配備傳感器后，可避免與障礙物發生碰撞，有助于提升該類設備的可操作性和安全性。

此外，該款采用混合型ToF法的3D傳感器還配備了獨家的環境光噪聲消除功能，是全球首款（※2）可在相當于盛夏白天光照強度達到10萬勒克斯（lux）環境下，實現最長20米室外測距的CMOS圖像傳感器。

6月15日，在美國火奴魯魯召開的半導體技術國際會議"VLSI 國際研討會(全稱：2022 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits）"（主辦方：美國電氣與電子工程師協會，會期：6月13日至17日）上，由凸版印刷、Brookman Technology 和靜岡大學聯合發表了該項新型ToF 傳感器技術。

• 開發背景

近年來，隨著智能手機和游戲機功能的增強、工業自動駕駛機器人等的普及，3D傳感器市場有望進一步擴大。根據距離檢測原理的不同，3D傳感器存在幾種測距方式，而通過測量光線照射到被攝體并返回傳感器所需的時間來估算相機到被攝體距離的"ToF法"，則隨著近年技術發展的進步，以其小型化和低功耗等的特點而最先被智能手機所采用。

自動駕駛的機器人和無人機需要配備"環境映射"功能，才能檢測出幾十米開外的障礙物并從捕獲的圖像中掌握自身所處的位置，而目前主流的"間接ToF法"3D傳感器在戶外使用時，由于其缺乏足夠的"抗環境光"性能，因此阻礙了其進一步的普及應用。

凸版印刷將Brookman Technology納為子公司后，靈活發揮兩家公司的優勢，全面推動新型3D傳感器的研發工作。通過改進Brookman Technology專長的"短脈沖驅動方式"（※3），成功研發出了全新的混合型ToF技術，不但具備遠距離測量和優異的抗環境光性能，還實現了高速圖像捕獲和多臺同時驅動的功能。

• 本次開發的新型ToF傳感器的關鍵特性

1. 可實現30m遠距離測量

通過采用混合型ToF驅動方式，可實現長達30米的遠距離測量，約為現有機型的5倍。

2. 配備環境光噪聲消除功能，可在盛夏的室外進行測量

傳感器的每個像素都配備了消除環境光成分的功能。因此，該傳感器可以消除環境光噪聲，即使是在盛夏白天光照強度達到10萬勒克斯的環境下，也能夠準確測量距離。

3. 每秒120張的高速圖像捕獲功能

通過在一幀內完成測距與消除環境光噪聲，確保不會發生成像模糊而導致"測量誤差"，實現精準測距。因此，1秒內最多可以捕獲120張距離圖像，大約是傳統機型的四倍多。

4. 最多可同時驅動256臺相機

采用獨家控制方式，可以像消除環境光一樣消除其他相機所發出的信號光。因此，可以同時驅動多臺相機而不產生干擾，最多可以同時驅動256臺相機。

• 今后的目標

凸版印刷與Brookman Technology今后將致力于在自動駕駛機器人和工業設備等領域普及新型ToF傳感器，給此類設備安裝上這雙可提升性能的全新"眼睛"，為實現更安全、更便捷的社會做出貢獻。目前，凸版印刷正在研發相應的相機以搭載采用新型ToF法的距離傳感器，并計劃于2022年12月開始提供評估機型，在2023年秋季正式上市銷售。

凸版印刷預計在2025年度內，實現包括新型ToF傳感器及搭載該類傳感器的相機、以及相關周邊訂單在內的銷售額約70億日元的目標。

關于Brookman Technology

Brookman Technology（原株式會社Brookman Lab）是由靜岡大學電子工學研究所的川人祥二教授基于在文部科學省"濱松地區智慧集群創業"項目中的研究成果，將民營企業的經營管理經驗與產品商業化技術相結合，于2006年2月成立的一家公司。此后，參與了多項CMOS集成電路、圖像傳感器、ToF傳感器的研發和設計工作。2021年3月，凸版印刷收購該公司94.6%的股份，將其納為旗下子公司。

關于凸版印刷

凸版印刷是一家在印刷、通信、安防、包裝、裝飾材料、電子和數字轉型領域提供綜合解決方案的全球領先供應商。我們的全球團隊擁有超過50,000名員工，為各個行業的客戶提供由行業領先的專業知識和技術結合的最佳解決方案，以應對企業和社會在當今瞬息萬變的市場中所面臨的各種挑戰。

欲了解更多，請訪問我們的中文網頁https://www.toppan.com/zh/，或在領英上關注凸版印刷https://www.linkedin.com/company/toppan/。

※1 "混合型ToF法"是指通過靜岡大學川人祥二教授提出的ToF測量法，在采用相位差測距的"間接ToF法"的基礎上，結合了用時間差測距的"直接ToF法"的功能而產生的一項新型傳感技術。由于此項技術通過組合多個短時間窗口，即所謂的"多時間窗口技術"，來估算光的往返時間，因此與傳統的間接ToF法相比，具有在室外測距時不容易受到環境光噪聲影響的特性。

※2 作為不使用雪崩光電二極管而是采用傳統CMOS圖像傳感器像素結構的ToF傳感器，基于本公司針對現有技術論文及現有產品目錄調查得出的結果（截至2022年6月）。

※3 "短脈沖驅動方式"是指與持續發射連續波激光的"連續波法"不同，通過照射時間寬度極短的脈沖激光來進行測距的驅動方式。

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