ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT CORP. zh_CN PRN Asia 中微公司發布用于高性能Mini-LED量產的MOCVD設備Prismo UniMax 2021-06-17 08:00:00 中微公司Prismo系列MOCVD設備已進入全球大多數領先的氮化鎵基藍綠光LED制造商,此次推出的Prismo UniMaxTM 是中微公司Prismo系列MOCVD設備的最新產品,該設備在同一系統中可配備多達4個反應腔。Prismo UniMaxTM 配置了創新的多區溫度補償加熱系統,具備優異的波長均勻性、重復性和穩定性。該設備還具有其他一些新穎特征,如噴淋頭的優化設計實現了更好的均勻性和產出穩定性、超大直徑石墨托盤可大幅提升產能并降低成本。Prismo UniMaxTM MOCVD設備專為高產量而設計,具有業內領先的加工容量;通過石墨盤晶片排布的最優化,其加工容量可以延伸到生長164片4英寸或72片6英寸晶片。 中微公司Prismo UniMaxTM MOCVD設備已收到來自國內領先客戶的訂單。同時,中微公司正在與更多客戶合作進行設備評估。Prismo UniMax TM 設備拓展了中微公司的MOCVD設備產品線,亦為全球LED芯片制造商提供最新解決方案以應對Mini LED生產帶來的挑戰。 隨著LED電視、平板電腦、筆記本電腦、桌面顯示器、智能手機和車載顯示等應用需求的不斷增長,Mini LED作為一種新興技術備受關注。Mini LED具有高亮度、精確的動態響應和高對比度等優勢,能夠顯著提升顯示品質。中微公司發布的Prismo UniMax? MOCVD設備能夠幫助客戶在Mini LED生產過程中實現優異的波長均勻性和穩定性,這些指標也是Mini LED生產的制勝關鍵。 “Prismo UniMaxTM延續了中微公司現有Prismo平臺的核心技術,是目前國內外極具創新性的MOCVD設備,為高性能的Mini LED生產提供高性價比的技術解決方案。”中微公司董事長兼總經理尹志堯博士說道,“我們很高興看到公司開發的Prismo UniMaxTM 設備已開始被國內領先的LED客戶所采用。產品不僅能滿足嚴格的技術要求,還能幫助客戶以更低的成本獲得更高的產量。我們欣喜地看到MOCVD設備市場即將迎來一個新的高潮。我們期待與我們的客戶和合作伙伴一同并肩努力,進一步推動Mini LED技術和MOCVD設備市場的發展。” Prismo UniMaxTM是中微公司的注冊商標。 ]]> 上海2021年6月17日 /美通社/ -- 中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼:688012)今日宣布推出專為高性能Mini LED量產而設計的Prismo UniMaxTM MOCVD設備,該設備在幫助LED芯片制造商提高產能的同時能夠有效地降低生產成本。


中微公司Prismo系列MOCVD設備已進入全球大多數領先的氮化鎵基藍綠光LED制造商,此次推出的Prismo UniMaxTM是中微公司Prismo系列MOCVD設備的最新產品,該設備在同一系統中可配備多達4個反應腔。Prismo UniMaxTM配置了創新的多區溫度補償加熱系統,具備優異的波長均勻性、重復性和穩定性。該設備還具有其他一些新穎特征,如噴淋頭的優化設計實現了更好的均勻性和產出穩定性、超大直徑石墨托盤可大幅提升產能并降低成本。Prismo UniMaxTM MOCVD設備專為高產量而設計,具有業內領先的加工容量;通過石墨盤晶片排布的最優化,其加工容量可以延伸到生長164片4英寸或72片6英寸晶片。

中微公司Prismo UniMaxTM MOCVD設備已收到來自國內領先客戶的訂單。同時,中微公司正在與更多客戶合作進行設備評估。Prismo UniMaxTM 設備拓展了中微公司的MOCVD設備產品線,亦為全球LED芯片制造商提供最新解決方案以應對Mini LED生產帶來的挑戰。

隨著LED電視、平板電腦、筆記本電腦、桌面顯示器、智能手機和車載顯示等應用需求的不斷增長,Mini LED作為一種新興技術備受關注。Mini LED具有高亮度、精確的動態響應和高對比度等優勢,能夠顯著提升顯示品質。中微公司發布的Prismo UniMax? MOCVD設備能夠幫助客戶在Mini LED生產過程中實現優異的波長均勻性和穩定性,這些指標也是Mini LED生產的制勝關鍵。

“Prismo UniMaxTM延續了中微公司現有Prismo平臺的核心技術,是目前國內外極具創新性的MOCVD設備,為高性能的Mini LED生產提供高性價比的技術解決方案。”中微公司董事長兼總經理尹志堯博士說道,“我們很高興看到公司開發的Prismo UniMaxTM設備已開始被國內領先的LED客戶所采用。產品不僅能滿足嚴格的技術要求,還能幫助客戶以更低的成本獲得更高的產量。我們欣喜地看到MOCVD設備市場即將迎來一個新的高潮。我們期待與我們的客戶和合作伙伴一同并肩努力,進一步推動Mini LED技術和MOCVD設備市場的發展。”

Prismo UniMaxTM是中微公司的注冊商標。

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中微惠創與德國DAS環境專家公司簽訂戰略合作協議 2021-03-26 11:55:00 上海2021年3月26日 /美通社/ -- 中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)旗下全資子公司中微惠創科技(上海)有限公司(以下簡稱“中微惠創”)日前與德國DAS環境專家有限公司(DAS Environmental Expert GmbH,以下簡稱“DAS”)正式簽訂戰略合作協議,雙方將在半導體行業尾氣處理設備領域展開緊密的合作,共同推動環保科技行業的發展。中微公司董事長兼總經理尹志堯博士、中微公司副總裁兼中微惠創總經理張宜東,DAS首席執行官René Reichardt、全球業務發展總監Guy Davies、首席財務官Maximilian Lilienthal、中國區銷售總監吳彬、中國區財務及人事行政總監邵黎等雙方代表出席了簽約儀式。雙方對未來行業的發展進行了深入探討,并就項目合作達成了一致意見。

中微惠創是中微公司旗下的全資子公司,于2014年12月在上海臨港注冊成立,主要致力于泛半導體領域環保、新能源等領域的產品研發、生產和銷售。依托公司在泛半導體設備制造領域的技術積累,中微惠創將為德國DAS公司尾氣處理設備提供本地化生產服務。德國DAS公司是一家總部位于德國德累斯頓的環境技術公司,專業從事高科技生產中富有挑戰性的廢氣治理以及工業與生活廢水的處理,在本次戰略合作中將主要負責產品的銷售和售后服務,未來雙方將在本土產品開發方面進行更深層次的合作。

簽約儀式上,中微公司董事長兼總經理尹志堯博士與德國DAS公司首席執行官René Reichardt分別發表致辭。

中微公司董事長兼總經理尹志堯博士表示:“中微惠創是中微公司外延性發展戰略的一部分,在開發VOC和廢氣處理設備等新業務拓展領域取得了積極的進展。德國DAS公司在廢氣、廢水處理設備領域是國際領先企業,有著深厚的技術基礎,我們很高興與德國DAS公司展開合作。在高科技領域,這種與行業前沿公司的跨國合作將是互利共贏的。作為中國本土泛半導體設備制造的領先企業,中微惠創將與德國DAS公司實現優勢互補、資源共享、并肩同行、發展互促,充分發揮雙方在資源、技術和市場方面的優勢,共同致力于為客戶提供卓越的產品和服務。”

德國DAS公司首席執行官René Reichardt表示:“中微惠創作為國內領先的泛半導體設備制造商,是我們在中國首選的技術制造合作伙伴。德國DAS和中微惠創的戰略合作具有重大意義,雙方的資源整合和優勢互補將能更好地服務于我們的客戶,為加速環保科技產業的發展做出更大貢獻。”

關于中微惠創科技(上海)有限公司

中微惠創科技(上海)有限公司(簡稱“中微惠創”)為中微半導體設備(上海)股份有限公司(簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)的全資子公司,于2014年12月在上海臨港注冊成立。中微惠創著力于泛半導體行業的環保設備、新能源等領域產品的研發、生產和銷售。中微惠創面向電子工業開發設計的VOC(揮發性有機氣體)處理設備已廣泛用于改善面板顯示行業生產線的潔凈室工作環境;中微惠創生產制造的國產化Scrubber設備將應用于集成電路、面板顯示、LED與太陽能行業等。

關于DAS環境專家有限公司

DAS環境專家有限公司(DAS Environmental Expert GmbH,簡稱“DAS”)是一家總部位于德國德累斯頓的環境技術公司,專業從事高科技生產中富有挑戰性的廢氣治理以及工業與生活廢水的處理。自1991成立以來,DAS致力于開發和制定具有個性化適應能力的環境技術解決方案。DAS的廢氣治理系統在世界領先的半導體、TFT、LED、光電領域、太陽能領域、納米技術領域和MEMS公司均已得到廣泛地應用。回顧過去,DAS的產品始終符合市場對于創新的驅動以及客戶的最新行業發展。DAS的第二業務:廢水處理解決方案,可以按照單獨的客戶需求進行擴展與適應。在這兩個業務單位中,DAS的服務團隊提供現場的專家服務,確保實現潔凈的生產與優化的工作周期。DAS的團隊在位于三大洲的七個辦事處中開展工作,共有600余名職員。

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中微公司發布雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star(R) 2021-03-16 08:00:00 (以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)在SEMICON China 2021期間正式發布了新一代電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設備Primo Twin-Star?,用于IC器件前道和后道制程導電/電介質膜的刻蝕應用。 中微公司雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star? 基于中微公司業已成熟的單臺反應器的電感耦合等離子體(ICP)刻蝕技術和雙臺反應器的Primo平臺,Primo Twin-Star? 為電介質前道/后道制程、多晶硅刻蝕、DTI和BSI刻蝕等提供了高性價比的刻蝕解決方案。它的創新設計包括:Primo Twin-Star? 使用了雙反應臺腔體設計和低電容耦合3D線圈設計,創新的反應腔設計可最大程度減弱非中心對稱抽氣口效應,通過采用多區溫控靜電吸盤(ESC)增強了對關鍵尺寸均勻性和重復性的控制。 憑借這些優異的性能和其他特性,與其他同類設備相比,Primo Twin-Star? 以更小的占地面積、更低的生產成本和更高的輸出效率,進行ICP適用的邏輯和存儲芯片的介質和導體的各種刻蝕應用,并用于功率器件和CMOS圖像傳感器(CIS)的刻蝕應用。由于Primo Twin-Star?反應器在很多方面采取了和單臺機Primo nanova?相同或相似的設計,在眾多的刻蝕應用中,Primo Twin-Star? 顯示了和單臺反應器相同的刻蝕結果。這就給客戶提供了高質量、高輸出和低成本的解決方案。 中微公司的Primo Twin-Star?刻蝕設備已收到來自國內領先客戶的訂單。目前,首臺Primo Twin-Star? 設備已交付客戶投入生產,良率穩定。公司還在進行用于不同刻蝕應用的多項評估。Primo Twin-Star? 設備優化了中微公司電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設備產品線。 “現在的制造商對于生產成本日益敏感,我們的目標是為客戶提供技術創新、高生產率和高性價比的ICP刻蝕解決方案。”中微公司集團副總裁兼等離子體刻蝕產品事業總部總經理倪圖強博士說道,“Primo Twin-Star? 設備已在各類前道/后道制程、用于功率器件和CIS應用的深溝槽隔離刻蝕(DTI)中表現出卓越的性能。通過提供兼具這些優異性能和高性價比的解決方案,我們不僅幫助客戶解決了技術難題,同時最大程度地提升了其投資效益。” Primo Twin-Star?是中微公司的注冊商標。 ]]> 上海2021年3月16日 /美通社/ -- 中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)在SEMICON China 2021期間正式發布了新一代電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設備Primo Twin-Star®,用于IC器件前道和后道制程導電/電介質膜的刻蝕應用。

中微公司雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star®
中微公司雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star®

基于中微公司業已成熟的單臺反應器的電感耦合等離子體(ICP)刻蝕技術和雙臺反應器的Primo平臺,Primo Twin-Star®為電介質前道/后道制程、多晶硅刻蝕、DTI和BSI刻蝕等提供了高性價比的刻蝕解決方案。它的創新設計包括:Primo Twin-Star®使用了雙反應臺腔體設計和低電容耦合3D線圈設計,創新的反應腔設計可最大程度減弱非中心對稱抽氣口效應,通過采用多區溫控靜電吸盤(ESC)增強了對關鍵尺寸均勻性和重復性的控制。

憑借這些優異的性能和其他特性,與其他同類設備相比,Primo Twin-Star® 以更小的占地面積、更低的生產成本和更高的輸出效率,進行ICP適用的邏輯和存儲芯片的介質和導體的各種刻蝕應用,并用于功率器件和CMOS圖像傳感器(CIS)的刻蝕應用。由于Primo Twin-Star®反應器在很多方面采取了和單臺機Primo nanova®相同或相似的設計,在眾多的刻蝕應用中,Primo Twin-Star®顯示了和單臺反應器相同的刻蝕結果。這就給客戶提供了高質量、高輸出和低成本的解決方案。

中微公司的Primo Twin-Star®刻蝕設備已收到來自國內領先客戶的訂單。目前,首臺Primo Twin-Star®設備已交付客戶投入生產,良率穩定。公司還在進行用于不同刻蝕應用的多項評估。Primo Twin-Star®設備優化了中微公司電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設備產品線。

“現在的制造商對于生產成本日益敏感,我們的目標是為客戶提供技術創新、高生產率和高性價比的ICP刻蝕解決方案。”中微公司集團副總裁兼等離子體刻蝕產品事業總部總經理倪圖強博士說道,“Primo Twin-Star®設備已在各類前道/后道制程、用于功率器件和CIS應用的深溝槽隔離刻蝕(DTI)中表現出卓越的性能。通過提供兼具這些優異性能和高性價比的解決方案,我們不僅幫助客戶解決了技術難題,同時最大程度地提升了其投資效益。”

Primo Twin-Star®是中微公司的注冊商標。

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中微公司發布用于深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3(TM) 2020-07-30 08:00:00 上海2020年7月30日 /美通社/ -- 中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)今日宣布推出Prismo HiT3TM MOCVD設備,主要用于深紫外LED量產。

中微Prismo系列MOCVD設備目前已進入全球大多數領先的藍綠光LED制造商,此次推出的Prismo HiT3TM是中微Prismo系列MOCVD設備的最新產品。該設備是適用于高質量氮化鋁和高鋁組分材料生長的關鍵設備,反應腔最高溫度可達1400度,具有優異的工藝重復性、均勻性和低缺陷率。該設備同時也為高產量而設計,單爐可生長18片2英寸外延晶片,并可延伸到生長4英寸晶片。

中微公司Prismo HiT3TM MOCVD設備早期的客戶包括國內領先的深紫外LED制造商馬鞍山杰生半導體有限公司,該公司的深紫外LED在家用、醫療和科研設備等領域有廣泛應用。

深紫外光幾十年前就被應用于工業和民用消毒殺菌領域。它通過破壞細菌和病毒的DNA使其喪失繁殖能力來發揮作用。深紫外LED被用于不同波長的殺菌燈中,且與傳統的汞燈相比對環境無污染。類似SARS、MERS和新冠病毒的出現使得深紫外LED產品的需求激增,深紫外LED產品可以消滅這些新生微生物。波長260-280nm的UVC波段的深紫外光就是目前該領域最先進的技術解決方案(例如杰生半導體的深紫外LED產品)。

中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備具有新穎的腔體設計,能在高溫環境下生長高質量氮化鋁工藝,并具有業內領先的深紫外LED高產出率;同時具備較長的平均免開腔維護間隔時間,進一步延長正常運行時間并提高產能。真空自動化傳輸系統可以抑制顆粒物的產生,并減少缺陷。自動化升降機構可方便維護操作并有效節省維護時間。

“我們現在已經看到了深紫外LED帶來的切實好處,它已成為消滅有害病原體的重要工具。”杰生半導體有限公司董事長康健說道,“隨著深紫外LED技術的持續發展,我們為能夠在公共和家庭消毒產品領域處于領先地位而感到自豪。中微公司設計的Prismo HiT3TM MOCVD設備可以滿足深紫外LED大批量、低生產成本的制造需求。中微公司憑借其世界一流的工藝專長和高性能的MOCVD設備解決方案,是值得信賴的合作伙伴。”

“中微自主研發的Prismo HiT3TM MOCVD設備延續了我們現有Prismo平臺已驗證的主要創新功能,并提升了可在高溫工藝環境下生長氮化鋁基材料的性能,使之拓展到深紫外LED的應用。”中微公司執行副總裁兼首席運營官杜志游博士說道,“杰生半導體始終致力于持續發展LED技術并創造有益于人類健康的產品,我們很高興杰生成為我們的早期用戶,同時也很榮幸我們的設備解決方案能夠助力客戶研發下一代深紫外LED產品,并在技術研發和成本控制上幫助客戶達成目標。”

Prismo HiT3TM是中微公司的注冊商標。

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