中微公司Prismo系列MOCVD設備已進入全球大多數領先的氮化鎵基藍綠光LED制造商，此次推出的Prismo UniMaxTM是中微公司Prismo系列MOCVD設備的最新產品，該設備在同一系統中可配備多達4個反應腔。Prismo UniMaxTM配置了創新的多區溫度補償加熱系統，具備優異的波長均勻性、重復性和穩定性。該設備還具有其他一些新穎特征，如噴淋頭的優化設計實現了更好的均勻性和產出穩定性、超大直徑石墨托盤可大幅提升產能并降低成本。Prismo UniMaxTM MOCVD設備專為高產量而設計，具有業內領先的加工容量；通過石墨盤晶片排布的最優化，其加工容量可以延伸到生長164片4英寸或72片6英寸晶片。
中微公司Prismo UniMaxTM MOCVD設備已收到來自國內領先客戶的訂單。同時，中微公司正在與更多客戶合作進行設備評估。Prismo UniMaxTM 設備拓展了中微公司的MOCVD設備產品線，亦為全球LED芯片制造商提供最新解決方案以應對Mini LED生產帶來的挑戰。
隨著LED電視、平板電腦、筆記本電腦、桌面顯示器、智能手機和車載顯示等應用需求的不斷增長，Mini LED作為一種新興技術備受關注。Mini LED具有高亮度、精確的動態響應和高對比度等優勢，能夠顯著提升顯示品質。中微公司發布的Prismo UniMax? MOCVD設備能夠幫助客戶在Mini LED生產過程中實現優異的波長均勻性和穩定性，這些指標也是Mini LED生產的制勝關鍵。
“Prismo UniMaxTM延續了中微公司現有Prismo平臺的核心技術，是目前國內外極具創新性的MOCVD設備，為高性能的Mini LED生產提供高性價比的技術解決方案。”中微公司董事長兼總經理尹志堯博士說道，“我們很高興看到公司開發的Prismo UniMaxTM設備已開始被國內領先的LED客戶所采用。產品不僅能滿足嚴格的技術要求，還能幫助客戶以更低的成本獲得更高的產量。我們欣喜地看到MOCVD設備市場即將迎來一個新的高潮。我們期待與我們的客戶和合作伙伴一同并肩努力，進一步推動Mini LED技術和MOCVD設備市場的發展。”
Prismo UniMaxTM是中微公司的注冊商標。
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中微公司雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star®
基于中微公司業已成熟的單臺反應器的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕技術和雙臺反應器的Primo平臺，Primo Twin-Star®為電介質前道/后道制程、多晶硅刻蝕、DTI和BSI刻蝕等提供了高性價比的刻蝕解決方案。它的創新設計包括：Primo Twin-Star®使用了雙反應臺腔體設計和低電容耦合3D線圈設計，創新的反應腔設計可最大程度減弱非中心對稱抽氣口效應，通過采用多區溫控靜電吸盤（ESC）增強了對關鍵尺寸均勻性和重復性的控制。
憑借這些優異的性能和其他特性，與其他同類設備相比，Primo Twin-Star® 以更小的占地面積、更低的生產成本和更高的輸出效率，進行ICP適用的邏輯和存儲芯片的介質和導體的各種刻蝕應用，并用于功率器件和CMOS圖像傳感器（CIS）的刻蝕應用。由于Primo Twin-Star®反應器在很多方面采取了和單臺機Primo nanova®相同或相似的設計，在眾多的刻蝕應用中，Primo Twin-Star®顯示了和單臺反應器相同的刻蝕結果。這就給客戶提供了高質量、高輸出和低成本的解決方案。
中微公司的Primo Twin-Star®刻蝕設備已收到來自國內領先客戶的訂單。目前，首臺Primo Twin-Star®設備已交付客戶投入生產，良率穩定。公司還在進行用于不同刻蝕應用的多項評估。Primo Twin-Star®設備優化了中微公司電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備產品線。
“現在的制造商對于生產成本日益敏感，我們的目標是為客戶提供技術創新、高生產率和高性價比的ICP刻蝕解決方案。”中微公司集團副總裁兼等離子體刻蝕產品事業總部總經理倪圖強博士說道，“Primo Twin-Star®設備已在各類前道/后道制程、用于功率器件和CIS應用的深溝槽隔離刻蝕（DTI）中表現出卓越的性能。通過提供兼具這些優異性能和高性價比的解決方案，我們不僅幫助客戶解決了技術難題，同時最大程度地提升了其投資效益。”
Primo Twin-Star®是中微公司的注冊商標。
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